03-09

電阻式熱蒸發鍍膜機
該設備為高真空多用途電阻蒸發鍍膜機,四對電極可單獨或同時蒸發不同的材料。設備為立式頂開蓋結構,四對電極可單獨或共蒸發,樣品Φ300(max),樣品臺公自轉,公轉轉速2-20rpm可調;流量計控制氣體流量,滿足離子轟擊壓力要求。

雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機
該設備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質膜等,用戶可以根據工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設備由主腔室和預備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜,完成用戶主要鍍膜工藝過程。預備室通過高真空插板閥與主腔室相連,可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗,并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。
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